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全自動去光阻/有機清洗機
光阻作用在IC制造的光置掩模,用于蝕刻,注入等工藝,使命完成后加以去除干凈。
產品描述
全機臺不銹鋼骨架/槽體/外殼燒焊/漏水測試全自主制造,不外包超音波槽采雙頻40/8OKhz三頻機40/80/120Khz
各自功率不打折扣,實現全方位去膠實力
機械手臂有主動式防撞及防疊貨安全設計 兼容(4"/6\ 678"、8712")晶圓,一機多功能 支持GEMS/SECS軟體自動化要求。
產品參數
| 序 號 | 設備型號名稱 | 數量 | 單臺設備組成部件 | 設備外形尺寸(mm) | 備注 | |||
| 部件名稱 | 數量 | |||||||
| 1 | 全自動去光阻清洗機 | 1 | 設備主機 | 1 | L2200*W1500*H2000 以實際設計尺寸為準 | 不銹鋼機架 | ||